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20名 NewTek LightWave 9 Image: Neutron. © DNA Productions. NewTek对LightWave的底层核心程序进行了完全的重写,并在今年的7月份完成了全部的工作,正好赶上Siggraph大会。LightWave 9的新特性包括:基于节点材质编辑器,可以进行光学修正的摄影机,adaptive pixel subdivision,Catmull-Clark次分表面,sub-surface scattering和大大提高的渲染速度。 新的基于节点的材质编辑系统增加了新的shading models,同时还带来了Oren-Nayar, anisotropic和sub-surface scattering。此外还有为当今高质量场景需要而大大提高的渲染速度,在Modeler和Layout方面加强的次分表面功能,包括Adapitve Pixel Subdivision,可以帮助用户在电影级的置换贴图,法线贴图(增加了对ZBrush的支持)方面做很多的工作,而且还可以在渲染的时候进行更加细节的控制。LightWave还增加了完整的可以匹配实际相机镜头的工具集,这个功能可以为视觉特效艺术家将3D元素和实拍影像相匹配提供方便。
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